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精度0.6纳米!国产电子束光刻机杭州破冰

精度0.6纳米!国产电子束光刻机杭州破冰 电子束光刻机 0.6纳米精度 量子芯片研发 国产半导体设备 羲之光刻机 杭州科技创新 芯片制造突破 两新融合 第1张

   电子束无声扫过硅片,显示屏上细微的电路线条渐次浮现——在中国科技大学实验室里,这台代号“羲之”的国产电子束光刻机正在完成它的首次应用测试。团队负责人紧盯着参数变化,嘴角微微上扬:“成了,0.6纳米精度达标。”这支被称作“纳米神笔”的钢柜状设备,能在头发丝截面雕刻整座城市地图,如今真正握在了中国科研人手中。

   取名“羲之”的深意藏在它的运作方式里。研发组巧妙地将电子束比喻为毛笔,在芯片上实现纳米级电路“手写”,精度锁定0.6纳米,线宽控制在8纳米。与传统光刻机不同,它彻底摆脱了掩膜版的束缚,像在硅基画布上自由挥毫。当华为海思等企业收到测试数据时,一位芯片设计师难掩激动:“研发初期的版型修改终于不用看人脸色了——原先调试十次的时间,现在够验证三十版方案。”

   这柄“中国刻刀”的锋芒直指技术封锁。过去五年,国内顶尖实验室提交的电子束光刻机采购申请屡遭驳回,某量子团队甚至被迫用电子显微镜改造替代设备。如今“羲之”不仅性能比肩国际主流机型,定价还低15%,已有七家科研机构排队洽谈合作。

   突破背后是杭州城西科创大走廊的“两新融合”实验。去年七月,浙江大学校友企业总部经济园挂出首批“技术需求清单”,量子研究院的电子束项目赫然在列。由三名教授带着博士生组建的攻坚组揭榜后,余杭区政府全程陪跑:从实验室样机到量产机型,审批流程压缩60%,首台设备出厂测试时,政府专员直接扛着行军床驻点协调。

   更值得关注的是创新转化机制的裂变效应。院士工作站直接入驻企业办公楼,走廊碰头会就能解决参数优化;城投未来之星大厦辟出2000平米概念验证车间,让那些曾锁在论文里的技术加速转化。眼下大走廊又在征集第二批硬科技项目,某团队的超导电路设计已进入中试阶段——中国量子芯片的自主之路,正从这把0.6纳米的刻刀开始延展。

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